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光柵光譜儀的選擇方法介紹

更新日期:2022-08-31       點(diǎn)擊次數(shù):2980
光柵光譜儀,是將成分復(fù)雜的光分解為光譜線的科學(xué)儀器。通過光譜儀對光信息的抓取、以照相底片顯影,或電腦化自動(dòng)顯示數(shù)值儀器顯示和分析,從而測知物品中含有何種元素。光柵光譜儀被廣泛應(yīng)用于顏色測量、化學(xué)成份的濃度測量或輻射度學(xué)分析、膜厚測量、氣體成分分析等領(lǐng)域中。
光柵光譜儀的工作原理先是衍射光柵,它是在一塊平整的玻璃或金屬材料表面(可以是平面或凹面)刻畫出一系列平行、等距的刻線,然后在整個(gè)表面鍍上高反射的金屬膜或介質(zhì)膜,就構(gòu)成一塊反射試驗(yàn)射光柵。相鄰刻線的間距d稱為光柵常數(shù),通??叹€密度為每毫米數(shù)百至數(shù)十萬條,刻線方向與光譜儀狹縫平行。入射光經(jīng)光柵衍射后,相鄰刻線產(chǎn)生的光程差。光柵方程將某波長的衍射角和入射角通過光柵常數(shù)d起來,為入射光波長,m為衍射級次,取等整數(shù)。式中的“”號選取規(guī)則為:入射角和衍射角在光柵法線的同側(cè)時(shí)取正號,在法線兩側(cè)時(shí)取負(fù)號。
光柵作為重要的分光器件,它的選擇與性能影響整個(gè)系統(tǒng)性能。
光柵分為刻劃光柵、復(fù)制光柵、全息光柵等。刻劃光柵是用鉆石刻刀在涂薄金屬表面機(jī)械刻劃而成;復(fù)制光柵是用母光柵復(fù)制而成。典型刻劃光柵和復(fù)制光柵的刻槽是三角形。全息光柵是由激光干涉條紋光刻而成。全息光柵通常包括正弦刻槽??虅澒鈻啪哂醒苌湫矢叩奶攸c(diǎn),全息光柵光譜范圍廣,雜散光低,且可作到高光譜分辨率。
在曲率半徑為R的凹面反射光柵的主截面上(即通過光柵中心而垂直于光柵刻線的平面),存在一個(gè)直徑為R的圓。當(dāng)狹縫和光柵都在這個(gè)圓上時(shí),則這個(gè)圓就是狹縫衍象焦點(diǎn)的軌跡。這個(gè)圓稱為羅蘭(Rowland)圓,這時(shí)凹面光柵同時(shí)起到準(zhǔn)直與聚焦的作用。
光柵方程同樣也適用于凹面光柵:d(sinα+sinβ)=ml (m=0,±1,±2……)
但式中光柵常數(shù)d并不是光柵刻線間的距離d’,而是d’在弦上的投影,即d=d’cosα。在凹面光柵表面上,刻線是不等距離的,而光柵圓弧所對應(yīng)的弦上是等距離的。由于凹面光柵曲率半徑比羅蘭圓大一倍,所以必須保證凹面光柵的中點(diǎn)與羅蘭圓相切,其他各點(diǎn)對稱地偏離羅蘭圓。
選擇光柵主要考慮如下因素:
1、閃耀波長,閃耀波長為光柵*大衍射效率點(diǎn),因此選擇光柵時(shí)應(yīng)盡量選擇閃耀波長在實(shí)驗(yàn)需要波長附近。如實(shí)驗(yàn)為可見光范圍,可選擇閃耀波長為500nm。
2、光柵刻線,光柵刻線多少直接關(guān)系到光譜分辨率,刻線多光譜分辨率高,刻線少光譜覆蓋范圍寬,兩者要根據(jù)實(shí)驗(yàn)靈活選擇。
3、光柵效率,光柵效率是衍射到給定級次的單色光與入射單色光的比值。光柵效率愈高,信號損失愈小。為提高此效率,除提高光柵制作工藝外,還采用特殊鍍膜,提高反射效率。 
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